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1.国家规范委网站显现，我国首个EUV光刻胶规范——《极紫外（EUV）光刻胶测验办法》作为拟立项规范，10月23日开端公示，截止时刻为11月22日。规范的起草单位包含上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制作有限公司、上海微电子配备（集团）股份有限公司。
2.据科技日报，近来，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者经过冷冻电子断层扫描技能，初次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面散布与缠结行为，辅导开宣布可明显削减光刻缺点的工业化计划。相关论文近来刊发于《天然·通讯》。
光刻是整个集成电路制作的完好进程中耗时最长、难度最大的工艺，光刻胶则是光刻进程最重要的耗材，对光刻工艺有着重要影响。跟着我国半导体厂商的强势兴起以及下流需求的扩展，光刻胶的商场规模继续增加，据锐观工业研究院陈述，2024年我国光刻胶商场规模增加至114亿元以上，KrF光刻胶等中高端产品国产代替进程加速，估计2025年光刻胶商场规模可达123亿元。
全球90%高端光刻胶商场被日本企业独占，我国技能打破将重塑工业链格式。该范畴的技能发展不只缩短了芯片制作周期，还为半导体资料职业带来“黄金十年”的出资机会，包含资料、设备及立异渠道等方向。
JSR株式会社：成立于1957年，全球抢先的光刻胶出产商，光刻胶先进的技能引领者，产品包含G/I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶（干法/湿法）和EUV光刻胶等。
东京应化（TOK）：全球抢先的半导体光刻胶出产商，产品掩盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子光束光刻胶等。
信越化学（ShinEtsu）：1998年完成光刻胶产品的商用化，是KrF光刻胶和ArF光刻胶职业抢先者，其光刻胶产品包含I/g线光刻胶、Krf光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶。
杜邦（DuPont）：全球知名品牌，创立于1802年，世界财富500强，世界较大的化工集团之一，致力于使用科学发明可继续的解决计划，旗下产品掩盖简直全系列。
住友化学：住友集团旗下，日本较具代表性的综合性化学企业，出产和供给工业药品、组成纤维资料、铝、组成橡胶、组成树脂、染料、业制品、农药、饲料添加剂、化学肥料等产品。
默克（Merck）：创建于1668年，拥有约50年前史，总部在德国达姆施塔特市，首要致力于立异型制药、生命科学以及前沿功用资料技能。
Dongjin（东进世美肯）：成立于1967年，韩国半导体品牌，旗下产品有光刻胶、稀释剂、抗反射涂层、发泡剂、研磨剂等。
晶瑞电材：微电子资料的渠道型高新技能企业，环绕泛半导体资料和新能源资料两个方向，主流产品包含光刻胶及配套资料等。
雅克科技：从事化学化工的企业，主体事务包含电子资料、液化天然气（LNG）保温板材和阻燃剂等。
南大光电：国内仅有量产ArF光刻胶的硬核玩家，也是国内仅有完成二十八纳米制成光刻胶量产的企业，在高端光刻胶范畴打破了国外独占。
上海新阳：专利狂魔+订单收割机，KrF厚膜光刻胶量产订单多，自研的一百九十三纳米光刻胶已经过验证。
容大感光：华为、中芯御用供货商，半导体光刻胶打入尖端芯片厂供应链。
江化微：光刻胶配套试剂掩盖中芯、华虹，2024年净利润同比暴增96%。
彤程新材：国产ArF光刻胶破局者，第一批产品性能对标世界大厂。
东材科技：与韩国Chemax合资布局“光刻胶单体—树脂—制品”全链条
飞凯资料：公司显现光刻胶全球市占率前三，国内TFT-LCD 正性光刻胶市占率超 30%。
